飞凯材料在集成电路制造领域提供多种高纯溶剂，能够应用于12吋晶圆制造的光刻胶洗边、蚀刻及后清洗制程。除此之外，公司提供定制化产品服务，能够根据不同客户的不同需求开各种高纯试剂。

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飞凯材料DUV底部抗反射层材料，搭配合适厚度可以将Al、Cu、W、GaAs等衬底反射率降低到1%以下；具有良好的填隙能力以拓展工艺窗口，分别适用于各类KrF光刻制程。

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飞凯材料KX系列G/H/I线通用高分辨率正性光刻胶，适合各种近紫外高分辨步进扫描光刻设备。选择合适的旋涂步骤及光刻工艺，可根据客户需求定制。

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