产品中心
销售网络
 
 
半导体配方产品 首页 > 产品中心
半导体配方产品

半导体配方产品包含:蚀刻液、清洗液、剥离液、显影液

蚀刻液产品
针对客户各种不同的金属蚀刻需求开发的金属蚀刻液,具有杂质含量极低,选择性高,蚀刻速率稳定可控等优点。有分别针对Cu、Al、SnAg、Au、Cr、Ti、Al2O3等不同金属的蚀刻液,可选择的金属蚀刻速率和有选择性蚀刻(对其它金属无攻击)的金属蚀刻液是我们的特点。我们也可以为客户进行定制的金属蚀刻液开发。
查看详情>>
清洗液产品
针对半导体、TFT-LCD、LED制造等所开发的各种清洗液,主要用于清洗制造过程中出现的光刻胶残渣、金属氧化物、有机药液、助焊剂等等各种残留。具有杂质少、清洗效果好、清洗后无残留等优点。
查看详情>>
剥离液产品
针对集成电路制造中使用的各种光刻胶,包括正胶、负胶、干膜、PI等,提供相应的剥离、去胶药液。具有杂质含量极低,剥离去胶能力强,稳定性高等优点。另外我们还可以根据客户需要做出具有特定金属保护(如铜、铝等)的剥离液,以避免普通剥离液对底层金属攻击的问题。
查看详情>>
显影液产品
针对集成电路制造中使用的各种光刻胶,提供相应的显影药液,具有高效稳定的显影速率。同时还可以根据客户需要做出具有特定金属保护(如铜、铝等)的显影液。
查看详情>>
返回>>
 
Copyright © 2009-2015 PhiChem All Rights Reserved.     沪ICP备05012293号
电话 :86-21-50551001    传真 :86-21-58993079    邮箱 :contact@phichem.com.cn