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剥离液产品
发布时间:2015-08-11     浏览次数:1071

针对集成电路制造中使用的各种光刻胶,包括正胶、负胶、干膜、PI等,提供相应的剥离、去胶药液。具有杂质含量极低,剥离去胶能力强,稳定性高等优点。另外我们还可以根据客户需要做出具有特定金属保护(如铜、铝等)的剥离液,以避免普通剥离液对底层金属攻击的问题。

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