产品中心
销售网络
相关链接
 
LED制造材料 首页 > 产品中心 > LED制造材料
负胶产品
  1. KX410系列近紫外负性光刻胶包括产品KX410-34与KX410-28,分别适合制备膜厚为2.8-4.0μm及1.6-3.0μm的光刻胶浮雕图案。产品对波长为320-380nm的近紫外(汞I线)敏感,适合各种汞I线或近紫外宽谱(320-380nm)曝光设备,广泛用于LIFT-OFF工艺。在合适的光刻工艺条件下该系列产品可用于制备CD低达2μm、胶壁倒角为65-85°的倒梯形光刻胶浮雕图案。

  2. KX250系列近紫外负性光刻胶包括产品KX250-34与KX250-28,分别适合制备膜厚为2.8-4.0μm及1.6-3.0μm的光刻胶浮雕图案。产品对波长为320-450nm的近紫外或蓝光敏感,可用于各种汞I/H/G单色或宽谱曝光设备,广泛用于LIFT-OFF工艺。在旋涂速度为 1500-5000rpm的范围内,该产品可用于制备厚度为 2.2-4.2μm的膜,并在合适的光刻工艺条件下获得CD低达3μm、胶壁倒角为65-85°的倒梯形光刻胶浮雕图案。

飞凯官方微信公众号 联系电话:86-21-50551001
公司传真:86-21-58993079
电子邮箱:contact@phichem.com.cn
公司地址:中国上海宝山潘泾路2999号(201908)
Copyright © 2009-2018 PhiChem All Rights Reserved.    沪ICP备05012293号
上海飞凯光电材料股份有限公司版权所有    技术支持:益动科技