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正胶产品
  1. KX3700系列通用正性光刻胶包括产品KX3731、KX3729、KX3727,它们分别适合制备膜 厚为2.4-3.3μm、2.0-2.6μm、1.6-2.1μm的光刻胶浮雕图案。该系列产品在汞G/H线曝光条件下最佳,但在汞I线或包括近紫外或蓝光的宽谱条件下也性能优良。产品对硅、氧化硅、蓝宝石、金属衬底粘附性优异,表面HMDS疏水处理一般不需要但推荐使用。使用汞G/H线步进扫描光刻机,如果膜厚为3μm该产品极限分辨率可达1μm;如使用近紫外宽谱接触或接近式套刻机,同样膜厚下分辨率亦可达3μm。

  2. KX5632是为干法蓝宝石图形化(DPSS)定制的一款高分辨率正性光刻胶,对蓝宝石衬底有优异的粘附性能。该产品适合用于制备膜厚为2.2-2.6μm的均匀光刻胶膜。使用汞G/H/I线步进扫描光刻机,可以制备CD达0.6μm、侧壁夹角近90度的光刻胶浮雕图案。

  3. KX5321是为湿法蓝宝石图形化(WPSS)开发一款高分辨正性光刻胶,对CVD氧化硅衬底有优异的粘附性能。该产品适合用于制备膜厚为0.9-1.3μm的均匀光刻胶膜。使用汞G/H/I线步进扫描光刻机,可以制备CD达0.6μm、侧壁夹角近90度的光刻胶浮雕图案。
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